本機床屬高精度光學、電子、活塞環(huán)、機械零件等平面元件的研磨拋光設備。CW08A平面精磨環(huán)拋機采用花崗巖磨盤，CW08B平面精密環(huán)拋機在CW08A的基礎上增加了主動輪旋轉機構, 對于加工零件起到了很好的自轉功能，根據(jù)用戶需要可以安裝蠕動泵和攪伴泵，CW08C平面精密環(huán)拋機采用鑄鐵磨盤，安裝了加砂循環(huán)系統(tǒng)，適用于精磨。

CW08B平面精密環(huán)拋機主要技術參數(shù)
1、 磨盤直徑（花崗巖磨盤） millstone dia.	Φ800mm		2、 磨盤轉速 speed of millstone	1～10轉/分 （根據(jù)用戶定）
3、盤面跳動 Precision of the millstone	≤0.05mm		4、加工范圍procedding scope	Φ≤260mm
5、水盆直徑tank dia.	1000mm		6、總功率power	2.4Kw
7、外形尺寸size	1300×1300×1400(mm)		8、重 量weight	約950Kg

主營行業(yè)： 公司注冊地址： 法人代表：張習兵
員工人數(shù)： 廠房面積： 年營業(yè)額：
年進口額： 年出口額： 主要市場：,,
客戶群：
公司名稱:無錫市錫斌光電設備有限公司
注冊資本: 公司網址：http://xibingd2011.glass.com.cn

主營產品：平面準確環(huán)拋機+兩軸研磨拋光機+四軸研磨拋光機+大兩軸精磨拋光機+單軸磨拋機+手修機 公司成立年份：
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聯(lián)系人：王超人
電話：86-0510-85072226-702
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拋光機操作的關鍵是要設法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產生的損傷層。同時也要使拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織，即不會造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用最細的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應當盡可能��；其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機拋光時，試樣磨面與拋光盤應絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產生新磨痕。同時還應使試樣自轉并沿轉盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時，由于摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會拋傷表面。為了達到粗拋的目的，要求轉盤轉速較低，最好不要超過600r/min；拋光時間應當比去掉劃痕所需的時間長些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。精拋時轉盤速度可適當提高，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。拋光機拋光質量的好壞嚴重影響試樣的組織結構，已逐步引起有關專家的重視。國內外在拋光機的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機型、新一代的拋光設備，正由原來的手動操作發(fā)展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機。下面介紹幾種常用的機械拋光機的性能和特點。拋機光專門針對鋼、鋁銅等金屬制品的表面和管類進行效果處理，幾十種原廠配件滿足不同需要，輕而易舉制造出各種精度不同的雪花紋、拉絲紋、波浪紋、啞光面、鏡面等，快速修補深度劃痕和輕微刮花，快速打磨和拋光；焊縫、水口痕、跡氧化膜、污跡和油漆等，適用於去毛刺、形成圓角，裝飾性金屬加工，在加工過程中不會形成暗影、過渡地帶和裝飾面不均勻等，是金屬制品生產線的重要設備。拋光機適用于以下行業(yè)：木材、家具行業(yè)如平木板、家具金屬拉手等工件砂光拉絲；五金（金屬）材料及制品鋁型材及其制品、不銹鋼制品及器皿、銅型材及制品、水暖衛(wèi)浴器材、鎖類、燈飾制品、標牌銘牌、五金工藝飾品、刀剪類、門的活葉、汽車自行車零配件、餐具類、韙扣類制品、鈕扣、皮帶扣、手機外殼、鐘表行業(yè)等工件砂光拉絲；電子零件、電子器材如電子零件、平板砂光拉絲等。