離線鍍膜玻璃.

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離線鍍膜玻璃出現(xiàn)問(wèn)題之暗道

【中玻網(wǎng)】暗道是指從鍍膜玻璃的反射方向看，膜層表面亮度或反射色異于整體的條狀區(qū)域，可見(jiàn)程度取決于它們和周圍膜層的亮度差。　　暗道的產(chǎn)生的原因及解決方式如下：　�。�1）由于鍍膜時(shí)其中一個(gè)或多個(gè)陰較產(chǎn)生電弧或跳閘引起。　　解決方式：避免電弧和保證電源、陰較正常工作，防止暗道的產(chǎn)生�！　。�2）傳動(dòng)問(wèn)題。指的是在生產(chǎn)中傳動(dòng)停止速度不一致，導(dǎo)致鍍出的膜層厚度明顯不均，可能是設(shè)備原因也可能是人為操作失誤�！　〗鉀Q方式：應(yīng)避免主觀失誤，同時(shí)定期檢查傳動(dòng)有無(wú)異常。　�。�3）均勻性太差導(dǎo)致某一層或某幾層膜疊加后出現(xiàn)膜厚不均而產(chǎn)生條狀色差暗道�！　〗鉀Q方式：一般需要對(duì)某一層膜的整體均勻性進(jìn)行調(diào)節(jié)，必要時(shí)對(duì)影響這一層的陰較磁場(chǎng)均勻性進(jìn)行調(diào)整，使每一膜層膜的膜厚達(dá)到均勻。
離線鍍膜玻璃缺點(diǎn)——暗道

【中玻網(wǎng)】暗道是指從鍍膜玻璃的反射方向看，膜層表面亮度或反射色異于整體的條狀區(qū)域，可見(jiàn)程度取決于它們和周圍膜層的亮度差。　　暗道的產(chǎn)生的原因及解決方式如下：　�。�1）由于鍍膜時(shí)其中一個(gè)或多個(gè)陰較產(chǎn)生電弧或跳閘引起�！　〗鉀Q方式：避免電弧和保證電源、陰較正常工作，防止暗道的產(chǎn)生�！　。�2）傳動(dòng)問(wèn)題。指的是在生產(chǎn)中傳動(dòng)停止速度不一致，導(dǎo)致鍍出的膜層厚度明顯不均，可能是設(shè)備原因也可能是人為操作失誤。　　解決方式：應(yīng)避免主觀失誤，同時(shí)定期檢查傳動(dòng)有無(wú)異常�！　。�3）均勻性太差導(dǎo)致某一層或某幾層膜疊加后出現(xiàn)膜厚不均而產(chǎn)生條狀色差暗道�！　〗鉀Q方式：一般需要對(duì)某一層膜的整體均勻性進(jìn)行調(diào)節(jié)，必要時(shí)對(duì)影響這一層的陰較磁場(chǎng)均勻性進(jìn)行調(diào)整，使每一膜層膜的膜厚達(dá)到均勻。
離線鍍膜玻璃常見(jiàn)缺點(diǎn)——斑紋

【中玻網(wǎng)】斑紋：從鍍膜玻璃的反射方向看，膜層表面色澤發(fā)生的云狀、放射狀或條紋狀缺點(diǎn)。斑紋的形成有以下三個(gè)主要原因，針對(duì)不同原因有不同的解決方案�！　�1.云狀斑紋：主要是由于原片新鮮度不夠，Na+外滲，也就是通常所說(shuō)的發(fā)霉。雖然經(jīng)過(guò)鋼化處理，但無(wú)法完全清除，故形成云霧狀斑紋，其解決方法除了確保使用新鮮原片外，對(duì)過(guò)期原片(過(guò)期時(shí)間不太長(zhǎng))，可采用拋光粉進(jìn)行拋光處理，再進(jìn)行鍍膜，可以提高玻璃與膜層的結(jié)合力從而減少斑紋的產(chǎn)生。當(dāng)然原片過(guò)期時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，拋光粉的使用也是無(wú)效的�！　�2.放射狀斑紋：主要是由于清洗機(jī)風(fēng)刀未吹干凈，進(jìn)行鍍膜時(shí)會(huì)出現(xiàn)放射狀斑紋。其解決方法為調(diào)整風(fēng)刀角度，并保證風(fēng)刀內(nèi)無(wú)異物�！　�3.條紋狀斑紋：主要是由于鍍膜機(jī)內(nèi)局部氣壓發(fā)生變化引起的，尤其是入、出口室漏氣等，由于引起局部氣壓發(fā)生變化的區(qū)域廣泛，只有依靠各生產(chǎn)廠家自己的經(jīng)驗(yàn)及相關(guān)設(shè)備進(jìn)行檢漏，排除后方可正常生產(chǎn)。
二氧化鈦在離線鍍膜玻璃保護(hù)方面的應(yīng)用

【中玻網(wǎng)】采用磁控濺射工藝生產(chǎn)的離線鍍膜玻璃，由于其顏色豐富、性能優(yōu)良等特點(diǎn)，已經(jīng)在建筑領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。磁控濺射鍍膜屬于軟鍍膜，尤其是含有銀材料的高性能Low-E鍍膜產(chǎn)品，膜層軟且不耐加工，在鍍膜基片的儲(chǔ)運(yùn)。再加工過(guò)程中，如有操作不慎則容易導(dǎo)致膜層提前損壞，包括膜層劃傷、氧化、耐加工能力變差等情況，導(dǎo)致經(jīng)濟(jì)損失。因此，合理改善鍍膜玻璃的膜層保護(hù)來(lái)提升耐加工性依然是廣大生產(chǎn)技術(shù)人員共同探尋的課題�！　∧壳笆袌�(chǎng)上的鍍膜玻璃膜層主要有以下幾種：（1）PE保護(hù)膜，應(yīng)用廣泛。PE保護(hù)膜以特殊聚乙烯塑料薄膜為基材，用來(lái)貼在鍍膜玻璃的膜面一側(cè)，起到保護(hù)膜層減少外部影響的作用，是早期玻璃深加工企業(yè)中廣泛使用的方式之一，目前使用這種方式保護(hù)鍍膜玻璃的情況越來(lái)越少。（2）水溶性材料保護(hù)膜，成膜前為一種半透明粘稠狀液體，成分包括聚乙烯醇、酯化聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮等，一般采用向鍍膜玻璃膜面噴涂的方式并烘干成膜，成膜后可以提高產(chǎn)品耐摩擦、抗劃傷能力，制作容易，純凈。但是在后續(xù)深加工過(guò)程中經(jīng)過(guò)清洗機(jī)清洗后，保護(hù)膜隨即消失，因此，這種方式的保護(hù)膜在大面積鍍膜玻璃的深加工企業(yè)中沒(méi)有被廣泛應(yīng)用。（3）類金剛石
無(wú)銀離線低輻射鍍膜玻璃的開(kāi)發(fā)

【中玻網(wǎng)】1、引言　　目前，低輻射鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法主要有兩種。一種是在線鍍膜，一般指在浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程中，在溫度較高的玻璃表面按一定配比噴涂某些化學(xué)試劑，使玻璃表面形成具有一定低輻射功能的化合物薄膜，具有較好的的物理化學(xué)性能，因此較為適合在民用市場(chǎng)推廣。另一種是離線鍍膜，一般指將輻射率較低的銀或其他金屬化合物按一定比例通過(guò)真空磁控濺射的方式將其鍍?cè)诓ＡП砻�。在線鍍膜玻璃受其工藝影響，光學(xué)及熱學(xué)性能相對(duì)于離線低輻射鍍膜玻璃要差很多，且顏色及遮陽(yáng)性能較難控制，顏色單一，所以不如離線鍍膜使用廣泛�！　�2、背景　　離線鍍膜工藝生產(chǎn)的低輻射玻璃主要有兩種加工方式：一種是先鋼化后鍍膜，另一種使先鍍膜后鋼化的可鋼化低輻射產(chǎn)品。在傳統(tǒng)的低輻射玻璃加工過(guò)程中，為了能實(shí)現(xiàn)較好的U值和選擇系數(shù)LSG(光熱比)，就必須增加膜層中的銀層厚度來(lái)降低玻璃膜層的輻射率，以得到理想的選擇系數(shù)。由于銀易被空氣中的二氧化硫氧化，所以必須鍍膜后立即合成中空玻璃使用�！　≡黾鱼y層厚度就意味著可見(jiàn)光透過(guò)率降低、外觀顏色呈現(xiàn)干擾色，影響玻璃的使用。而市場(chǎng)上所推廣的可鋼化低輻射鍍膜產(chǎn)品，因采用先鍍膜后鋼化的加工方式，在后續(xù)加工過(guò)程
秦皇島榮科離線鍍膜玻璃6月14日網(wǎng)上報(bào)價(jià)

產(chǎn)品名稱規(guī)格價(jià)格包裝等級(jí)銀灰鍍膜玻璃5mm28元/平方米木箱一等品銀灰鍍膜玻璃6mm32元/平方米木箱一等品茶色鍍膜玻璃4mm26.3元/平方米木箱一等品茶色鍍膜玻璃5mm29元/平方米木箱一等品茶色鍍膜玻璃6mm33元/平方米木箱一等品茶色鍍膜玻璃8mm39.6元/平方米木箱一等品翡翠綠鍍膜玻璃5mm32元/平方米木箱一等品翡翠綠鍍膜玻璃6mm36元/平方米木箱一等品F綠鍍膜玻璃5mm32元/平方米木箱一等品F綠鍍膜玻璃6mm36元/平方米木箱一等品寶石藍(lán)鍍膜玻璃5mm35元/平方米木箱一等品該報(bào)價(jià)由：秦皇島榮科玻璃有限公司提供商鋪地址：秦皇島榮科玻璃有限公司
離線Low-E玻璃鍍膜質(zhì)量控制

　　Low-E玻璃又稱低輻射鍍膜玻璃，是在玻璃表面鍍上以銀為基礎(chǔ)的若干層金屬或其化合物薄膜，這些膜層具有對(duì)可見(jiàn)光高透過(guò)及對(duì)中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性，具有良好的節(jié)能效果和光學(xué)性能。真空磁控濺射法(PVD)也稱離線法，可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜膜系Low-E玻璃的大規(guī)模量產(chǎn)，成為近年來(lái)Low-E玻璃的主流生產(chǎn)工藝。　　相比傳統(tǒng)的熱反射鍍膜玻璃，Low-E玻璃的鍍膜層數(shù)多也更薄，特別是近年來(lái)雙銀/三銀Low-E玻璃的推廣，有的產(chǎn)品需要沉積多達(dá)20多層不同材料的薄膜，這就對(duì)每層薄膜的質(zhì)量和均勻性提出了非�？量痰囊�。如果不能很好的控制單層薄膜的質(zhì)量和均勻性，這么多層薄膜累加后的顏色、透光率等光學(xué)不均勻性就會(huì)非常明顯。因此對(duì)現(xiàn)有的PVD鍍膜工藝來(lái)說(shuō)，提高鍍膜的質(zhì)量和均勻性是一個(gè)非常關(guān)鍵的課題。　　1工藝氣體布?xì)饩鶆蛐? 　　作為膜層均勻性控制的主要手段之一，工藝氣體布?xì)饩鶆蛐苑浅Ｖ匾�。我們采用如下二種方法確保工藝氣體沿玻璃板寬方向分布的均勻性：　　1)布?xì)夤苈贩譃橹鞴芎洼o管，主管由3個(gè)質(zhì)量流量計(jì)分別控制Ar、O2、N2氣的供氣量，輔管根據(jù)陰較寬度分為3～7段，每段由一個(gè)質(zhì)量流量計(jì)單獨(dú)控制工藝氣體流量
離線鍍膜玻璃與在線鍍膜玻璃的區(qū)別

【中玻網(wǎng)】1.產(chǎn)品檔次和引進(jìn)歷史　　　　離線鍍膜玻璃是在真空磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)線上，將金屬、金屬化合物根據(jù)使用性能的不同（隔熱性、顏色、反光率等），組合成多層薄膜而構(gòu)成的，一般鍍膜層由2-3層薄膜組成，并可根據(jù)需要配置膜層產(chǎn)生不同的顏色。這種生產(chǎn)工藝決定了在其產(chǎn)品的高性能和多顏色選擇性，因此屬于高等產(chǎn)品。在線鍍膜玻璃是在浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程中，在熱玻璃的表面上噴涂Sn的化學(xué)溶液或粉末，形成土灰色的單層化合物薄膜而制成的。產(chǎn)品多以有色玻璃為基片，顏色主要靠有色玻璃本身的顏色決定的。這種生產(chǎn)工藝決定了在線鍍膜玻璃的性能較差和低檔產(chǎn)品的屬性�！　　　〖热辉诰€鍍膜是低檔產(chǎn)品，我國(guó)為何還會(huì)發(fā)展呢？　　　　上世紀(jì)80年代中期，我國(guó)在引進(jìn)鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)時(shí)曾對(duì)國(guó)外鍍膜玻璃的生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品檔次和市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)作了詳細(xì)的調(diào)研，調(diào)研結(jié)果顯示：在線鍍膜玻璃的市場(chǎng)份額年增長(zhǎng)率僅為約20%，而離線鍍膜玻璃的市場(chǎng)份額年增長(zhǎng)率則接近120%。調(diào)研結(jié)果還反映了這兩種產(chǎn)品的用戶群體不同，在線鍍膜產(chǎn)品主要面向民用住宅和小型公建項(xiàng)目，大型公建項(xiàng)目較少采用，而離線鍍膜產(chǎn)品則主要用于公共建筑項(xiàng)目。此項(xiàng)調(diào)研結(jié)果確定了我國(guó)的引進(jìn)政策，
離線鍍膜玻璃常見(jiàn)缺點(diǎn)及解決對(duì)策

【中玻網(wǎng)】1引言　　　　隨著人們審美觀及對(duì)環(huán)保節(jié)能的不斷提高，離線鍍膜玻璃越來(lái)越廣泛地應(yīng)用到幕墻及民用住宅上。本文就離線鍍膜玻璃生產(chǎn)過(guò)程中出現(xiàn)的常見(jiàn)缺點(diǎn)作了分析，結(jié)合實(shí)際生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，針對(duì)其缺點(diǎn)找出相應(yīng)對(duì)策�！　　　‰x線磁控濺射鍍膜玻璃可分為陽(yáng)光控制鍍膜玻璃（solarcontrol coated glass）和低輻射鍍膜玻璃（Low-Eglass）兩大類。此兩大類產(chǎn)品在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，其缺點(diǎn)比例各不相同，下面針對(duì)這兩大類產(chǎn)品分別闡述其缺點(diǎn)及解決對(duì)策。　　　　2陽(yáng)光控制膜玻璃常見(jiàn)缺點(diǎn)及解決辦法　　　　陽(yáng)光控制鍍膜玻璃（solar controlcoated glass）是指對(duì)波長(zhǎng)范圍在350~1800nm的太陽(yáng)光具有一定控制作用的鍍膜玻璃，常見(jiàn)缺點(diǎn)為小孔和斑點(diǎn)。小孔（pinhole）：從鍍膜玻璃透射方向看，相對(duì)膜層整體可視透明部分或全部沒(méi)有附著膜層的點(diǎn)狀缺點(diǎn)；斑點(diǎn)（spot）：從鍍膜玻璃的透射方向看，相對(duì)膜層整體色澤較暗的點(diǎn)狀缺點(diǎn)。國(guó)標(biāo)GB/T18915.1~18915.2-2002對(duì)小孔及斑點(diǎn)等缺點(diǎn)的要求見(jiàn)表1。　　（1）小孔、斑點(diǎn)的形成及其相應(yīng)的解決對(duì)策如下：　　　�、僬婵斩炔�
提高離線Low-E玻璃鍍膜質(zhì)量的方法

【中玻網(wǎng)】Low-E玻璃又稱低輻射鍍膜玻璃，是在玻璃表面鍍上以銀為基礎(chǔ)的若干層金屬或其化合物薄膜，這些膜層具有對(duì)可見(jiàn)光高透過(guò)及對(duì)中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性，具有良好的節(jié)能效果和光學(xué)性能。真空磁控濺射法（PVD）也稱離線法，可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜膜系Low-E玻璃的大規(guī)模量產(chǎn)，成為近年來(lái)Low-E玻璃的主流生產(chǎn)工藝�！　　　∠啾葌鹘y(tǒng)的熱反射鍍膜玻璃，Low-E玻璃的鍍膜層數(shù)多也更薄，特別是近年來(lái)雙銀／三銀Low-E玻璃的推廣，有的產(chǎn)品需要沉積多達(dá)20多層不同材料的薄膜，這就對(duì)每層薄膜的質(zhì)量和均勻性提出了非�？量痰囊�。如果不能很好的控制單層薄膜的質(zhì)量和均勻性，這么多層薄膜累加后的顏色、透光率等光學(xué)不均勻性就會(huì)非常明顯。因此對(duì)現(xiàn)有的PVD鍍膜工藝來(lái)說(shuō)，提高鍍膜的質(zhì)量和均勻性是一個(gè)非常關(guān)鍵的課題�！　　　。惫に嚉怏w布?xì)饩鶆蛐浴　　　∽鳛槟泳鶆蛐钥刂频闹饕侄沃�，工藝氣體布?xì)饩鶆蛐苑浅Ｖ匾�。我們采用如下二種方法確保工藝氣體沿玻璃板寬方向分布的均勻性：　　　�。保┎�?xì)夤苈贩譃橹鞴芎洼o管，主管由3個(gè)質(zhì)量流量計(jì)分別控制Ar、O2、N2氣的供氣量，輔管根據(jù)陰較寬度分為3～7段，每段由一個(gè)質(zhì)量流量計(jì)單獨(dú)控制工藝氣
淺談：離線雙銀Low-E鍍膜玻璃膜系開(kāi)發(fā)

【中玻網(wǎng)】1、技術(shù)背景真空（詞條“真空”由行業(yè)大百科提供）磁控濺射鍍膜技術(shù)是通過(guò)真空磁控濺射鍍膜機(jī)實(shí)現(xiàn)的，鍍膜機(jī)內(nèi)由不同級(jí)別的真空泵抽氣，在系統(tǒng)內(nèi)營(yíng)造出一個(gè)鍍膜所需的真空環(huán)境，真空度要達(dá)到Low-E鍍膜所需的本底真空，一般在(1~5)×10-8Pa。在真空環(huán)境中向靶材(陰較（詞條“陰較”由行業(yè)大百科提供）)下充入工藝氣體氬氣(Ar)，氬氣在外加電場(chǎng)(由直流或交流電源產(chǎn)生)作用下發(fā)生電離生成氬離子(Ar+)，同時(shí)在電場(chǎng)E的作用下，氬離子加速飛向陰較靶并以高能量轟擊靶表面，使靶材產(chǎn)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子(或分子)沉積在玻璃基片上形成薄膜。同時(shí)被濺射出的二次電子在陰較暗區(qū)被加速，在飛向基片的過(guò)程中，落入設(shè)定的正交電磁場(chǎng)的電子阱中，直接被磁場(chǎng)的洛倫茲力束縛，使其在磁場(chǎng)B的洛倫茲力作用下，以旋輪線和螺旋線的復(fù)合形式在靶表面附近作回旋運(yùn)動(dòng)。電子e的運(yùn)動(dòng)被電磁場(chǎng)束縛在靠近靶表面的等離子區(qū)域內(nèi)，使其到達(dá)陽(yáng)較前的行程大大增長(zhǎng)，大大增加碰撞電離幾率，使得該區(qū)域內(nèi)氣體原子的離化率增加，轟擊靶材的高能Ar+離子增多，從而實(shí)現(xiàn)了磁控濺射
離線雙銀Low-E鍍膜玻璃膜系開(kāi)發(fā)淺談

【中玻網(wǎng)】0引言　　　　目前國(guó)內(nèi)使用的Low-E鍍膜玻璃產(chǎn)品主要是單銀Low-E鍍膜玻璃，只有少數(shù)幾家玻璃加工企業(yè)可以生產(chǎn)雙銀Low-E鍍膜玻璃（以下簡(jiǎn)稱雙銀Low-E），且具有較成熟的生產(chǎn)技術(shù)，而這幾家玻璃企業(yè)所生產(chǎn)的雙銀Low-E多為自產(chǎn)自用。隨著國(guó)家建筑節(jié)能要求的不斷提升，建筑節(jié)能性能更高的雙銀Low-E的需求量也在不斷提高。目前國(guó)內(nèi)Low-E玻璃市場(chǎng)中，雙銀Low-E使用量不到單銀Low-E使用量的10％。限制雙銀Low-E推廣和使用的原因主要有兩點(diǎn)：一是雙銀Low-E鍍膜玻璃工藝技術(shù)難度非常大，生產(chǎn)技術(shù)整體不夠成熟；二是雙銀Low-E市場(chǎng)價(jià)格較高。所以，只有了解雙銀Low-E膜系的開(kāi)發(fā)過(guò)程，解決雙銀Low-E在生產(chǎn)中的關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)雙銀Low-E鍍膜玻璃的產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)量的穩(wěn)定，才能夠使這種節(jié)能性能更高的產(chǎn)品的成本降低，并得到更廣泛的推廣和使用。本文即通過(guò)雙銀Low-E膜系開(kāi)發(fā)過(guò)程的分析，明確了在雙銀Low-E鍍膜玻璃膜系的開(kāi)發(fā)過(guò)程中應(yīng)注意的問(wèn)題，并從實(shí)際生產(chǎn)的角度提出了一些對(duì)于雙銀Low-E膜系開(kāi)發(fā)的建議�！　　　�1技術(shù)背景　　　　真空磁控濺射鍍膜技術(shù)是通過(guò)真空磁控濺射鍍